日本nic日研株式会社针对瓷质抛光砖太光、太滑、易吸污等缺陷而开发的nic干粒釉，通过二次布料压制在瓷砖的坯体上高温煅烧，使瓷砖图案质感层次丰富，具有亚光、耐磨、防滑、抗污的效果。

    由于抛光砖经过长时间的抛光，不仅耗电、耗水、耗磨具，而且产生废水、废砖难以处理，现在日本、欧美等发达国家较少使用抛光砖，认为要改变抛光砖太光、太滑、易吸污的缺陷势在必行。因此，干粒釉瓷砖应运而生是瓷砖市场发展的趋势。生产干粒釉瓷砖，是在抛光砖坯二次布料的基础上压制干粒釉成型，干粒釉在1200℃以上烧成气氛中发色扩散，过渡自然有层次感，图案色泽亚光耐磨。砖面钢锉般微凹凸的立体质感平而不滑，并由于其吸水率达0.5％以下，因此比吸水率大于5％的仿古砖更耐磨、防污，而且图案质感更丰富自然。